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半導體專用反滲透設備主要功能

發布時間:2016-11-07作者:來源:瀏覽次數:1204

半導體專用反滲透設備工藝流程

     1、反滲透水處理設備選用離子交換辦法,其流程如下

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

  2、半導體專用反滲透設備選用兩級反滲透辦法,其流程如下

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→榜首級反滲透→PH調理→中心水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

  3、半導體專用反滲透設備選用EDI辦法,其流程如下

  原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中心水箱→中心水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

半導體專用反滲透設備主要功能

  1、反滲透水處理設備配有在線的表面,可隨時監督設備的工作,以確保設備處于最好的情況。

  2、半導體專用反滲透設備具有過熱保護功用。當設備的負載逾越設定值時,設備會自動掉電以保護悉數設備。

  3、設備設有高低壓保護功用。如泵進口壓力過低則會構成汽蝕,對泵構成嚴重的損壞。如泵出口壓力過高則會對反滲透膜構成機械損壞。本設備設有自動保護裝置,當出現上述情況時,設備會自動停機。

  4、半導體專用反滲透設備裝有各種指示燈。能夠指示設備當時的工作情況,當設備出現各種倒霉情況時,例如:泵進口低壓,泵出口高壓等情況,設備能夠及時反映,提示操作人員調整各項參數。




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